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高NA傅里葉顯微鏡單分子成像
時間:2020-05-06 09:43來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
摘要
 
傅里葉顯微鏡廣泛應用于單分子成像、表面等離子體觀察、光子晶體成像等領域,它使得直接觀測空間頻率分布成為可能。
單分子的成像質量取決于高NA 傅里葉顯微鏡系統,例如,在復雜透鏡系統中,每個光學界面的角度相關的菲涅耳損耗和孔徑的衍射。VirtualLab Fusion可以在考慮菲涅耳損耗和孔徑衍射效應的情況下對整個系統進行建模。文中給出了一個案例,并與文獻中的實驗結果進行了比較。


 
建模任務

 
在傅里葉平面上成像

 
在傅里葉平面上成像

 
方向[0,1,0]的理想vs實驗以及理想vs仿真
 
理想:由 𝐼𝑥 = cos𝜃, 𝐼𝑦 = sec𝜃 計算[Juškaitis, Springer US, (2006)]
 
實驗:衍射光闌在傅里葉平面上產生能量密度的波紋。理想模型(紅色曲線)和實驗(黑色曲線)的區別是雙重的:菲涅耳損耗和衍射。
 
仿真:物理光學考慮菲涅耳損耗和物鏡孔徑的衍射,導致在傅里葉平面上產生波紋,與實驗結果吻合較好。
 
紅色的曲線來自理想系統;黑色曲線來自實驗;藍色和綠色的曲線是從之前的幻燈片中提取的仿真輪廓的相應顏色。
 
走進VirtualLab Fusion

 
VirtualLab Fusion的工作流程
 

 
從Zemax OpticStudio®導入透鏡系統
- 從Zemax導入光學系統 [用例] 
分析實際透鏡系統的成像性能
- 分析高NA物鏡聚焦 [用例] 
 
VirtualLab Fusion技術

文件信息

 
延伸閱讀
- 分析高NA物鏡聚焦
- 通過瑞利標準對顯微鏡物鏡進行分辨率研究
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