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用于X射線束的掠入射聚焦鏡

X射線成像系統:Kirkpatrick-

結構光照明的顯微鏡系統

用阿貝判據研究顯微系統的分

包含光柵的高NA顯微系統

用于3D成像顯微鏡的雙螺旋PSF

高NA顯微鏡系統分析偶極子源

用于高NA顯微鏡成像的工程化P

用于超短脈沖的光柵展寬器

SSTF中的脈沖傾斜–設置

用阿貝判據研究顯微系統的分辨率
時間:2021-06-16 20:47來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
摘要
 
顯微系統的分辨率一般用阿貝判據進行表征。這也解釋了物鏡的數值孔徑(NA)決定了光柵(作為樣本)衍射階在其后焦平面上的濾波。當高衍射級次的衍射被濾除后,像面不會發生干涉,因此不會成像。本實例演示了數值孔徑NA對濾波效果和分辨率的影響。


 
1. 案例

  
在VirtualLab Fusion中構建系統
 
1. 系統構建模塊

 
2. 組件連接器
 

幾何光學仿真
 
以光線追跡
 
1. 結果:光線追跡
 

快速物理光學仿真
 
以場追跡
 
1. NA=1.4時的光柵成像 

 
2. NA=0.75時的光柵成像 
  
 
3. NA=0.5時的光柵成像 
  

 
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