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JCMSuite應用—衰減相移掩模
時間:2021-08-26 22:18來源:訊技光電作者: 技術部點擊:打印
在本示例中,模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示:

 
掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方,位于相移區域。
 
由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式),在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設置3DTo2D = yes標簽,以執行用戶自定義傳入方向的自動轉換。啟用此標記后,就可以描述傳入區域,就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統一設置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入,光線的傳輸方向為+Z方向。
 
相位分布如下圖所示:

 
相移區域的影響清晰可見,導致開口上方光束的180度相位差。同時光場的S和P分量也顯示出相位差:

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